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華中科技大學(xué)2025年04月政府采購意向公開

所屬地區(qū):全國 發(fā)布日期:2025-02-21
所屬地區(qū):全國 招標(biāo)業(yè)主:登錄查看 信息類型:需求公告
更新時間:2025/02/21 招標(biāo)代理:登錄查看 截止時間:登錄查看
獲取更多招標(biāo)具體信息:151-5652-2897
為便于供應(yīng)商及時了解政府采購信息,根據(jù)《財政部關(guān)于開展政府采購意向公開工作的通知》(財庫〔2020〕10號)等有關(guān)規(guī)定,,現(xiàn)將華中科技大學(xué)2025年04月政府采購意向公開如下:
(略)采購項目名稱:(略)
18英寸介質(zhì)刻蝕機(jī)YX(略)A(略)工藝試驗機(jī)擬購8英寸介質(zhì)刻蝕機(jī)1臺,該設(shè)備利用化學(xué)反應(yīng)和物理離子轟擊去除硅片表面的材料來實現(xiàn)高精度圖形化,。晶圓尺寸:8英寸向下兼容,;片內(nèi)不均勻性:<5%;片間不均勻性:<5%,;刻蝕形貌:85°±5°,。服務(wù)要求:設(shè)備安裝調(diào)試后,提供不少于3個工作日的技術(shù)培訓(xùn)服務(wù),;所有硬件一年免費保修,、電話報修后4小時內(nèi)響應(yīng);提供設(shè)備終身維護(hù)維修服務(wù),。(略)年04月
2氧化物電介質(zhì)磁控濺射儀YX(略)A(略)工藝試驗機(jī)擬采購氧化物電介質(zhì)磁控濺射儀1臺,,該設(shè)備是鍍膜的主要技術(shù)之一,通過控制真空室內(nèi)的氣壓與濺射功率,,就可以獲得穩(wěn)定的沉積速率,,通過精確控制鍍膜時間,容易獲得均勻的高精度的膜厚,。主要用于Al2O3,、Ta2O5、HfO2等電介質(zhì)薄膜材料生長,。1.基片尺寸:8英寸(兼容小尺寸基片)2,、磁控濺射靶:8英寸,3套;3,、配置1套直流電源,2套射頻電源,。服務(wù)要求:設(shè)備安裝調(diào)試后,,提供不少于3個工作日的技術(shù)培訓(xùn)服務(wù);所有硬件一年免費保修,、電話報修后4小時內(nèi)響應(yīng),;提供設(shè)備終身維護(hù)維修服務(wù)。(略)年04月
3晶圓鍵合機(jī)YX(略)A(略)工藝試驗機(jī)擬采購晶圓鍵合機(jī)1臺,,該設(shè)備以鍵合膠為中間層,,將兩片襯底(硅、玻璃,、陶瓷,、金屬或其它單晶材料)通過加熱加壓的方式:(略)
本次公開的采購意向是本單位:(略)
(略)
2025年02月21日
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