根據(jù)建設(shè)項目環(huán)境影響評價審批程序的有關(guān)規(guī)定，（略）半導(dǎo)體用超高純磁控濺射鉭靶材(10nm以下芯片用)的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目環(huán)境影響評價文件?，F(xiàn)將受理情況予以公示,，公示期為2024年6月13日-2024年6月19日(5個工作日),。
聯(lián)系電話：（略）
通訊地址：（略）
郵編：264211
項目名字：（略）半導(dǎo)體用超高純磁控濺射鉭靶材(10nm以下芯片用)的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目報告表
建設(shè)單位：（略）
建設(shè)地點：（略）
環(huán)評單位：（略）
審批單位：（略）
附件1：半導(dǎo)體用超高純磁控濺射鉭靶材(10nm以下芯片用)的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目.pdf969.4KB,下載次數(shù)0