申購明細(xì)詳情
(略)申購名稱:
(略)
1磁控濺射鍍膜機(jī)臺光拓GT500-Y2"1.1
(略)(1臺)
(略)底盤結(jié)構(gòu)
(略)采用型材搭建或焊接式框架,外觀要求氧化處理或噴漆,,防止生銹,;
(略)底部帶有輪子,,可推動,,并帶有可調(diào)節(jié)高度的支腳,。
(略)帶有機(jī)械旋轉(zhuǎn)手臂,,有多角度調(diào)節(jié)操作界面,。
(略)電氣控制集成到底盤上,與真空腔體一體式,。
(略)基片架結(jié)構(gòu)
(略)★可以固定1片150mmx150mm基片,,向下兼容,采用嵌入式結(jié)構(gòu),?;瑤в屑訜岷婵竟δ埽瑴囟确秶菏覝?300℃,。
(略)基片可上下升降,,行程50mm,電機(jī)驅(qū)動實(shí)現(xiàn)連續(xù)旋轉(zhuǎn),,最大轉(zhuǎn)速可達(dá)30轉(zhuǎn)/分鐘,,通過磁流體與基片托盤連接。
(略)配有二個擋板,,氣缸驅(qū)動,,二個擋板組合使用,,可遮擋范圍150mmx150mm。
(略)濺射源
(略)▲強(qiáng)磁和普磁靶各1個,,4英寸,,帶靶擋板,靶角度可調(diào)節(jié),,可濺射金屬及金屬氧化物以及其它材料,。
(略)▲每個靶全部通水冷,保護(hù)磁鐵在高溫濺射過程中消磁,,工作壓強(qiáng)(濺射):0.1~10Pa,,濺射不均勻性≤±5%。
(略)▲配備3路MFC控制器,,氬氣、氧氣,、氮?dú)?,流量上限分別為200sccm,200sccm,200sccm。
(略)臺國內(nèi)知名品牌直流電源,,功率不小于1KW,;
(略)臺國內(nèi)知名品牌射頻電源,功率不小于500W,;
(略)自動化控制軟件
(略)采用工控機(jī)控制模式,,相關(guān)的操作均在工控機(jī)界面完成。
(略)(略)分為自動和手動模式,,可以隨時切換,。
(略)帶有一鍵自動濺射功能。
(略)真空室
(略)真空室由不銹鋼制成,,內(nèi)部尺寸約為500mm*500mm*500mm,,裝有基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)和擋板的固定裝置,以及靶,、真空泵,、樣品盤等裝置。
(略)▲真空腔體配備兩個可以完全打開的門,,前門為移門,,通過與直線導(dǎo)軌,滑塊等裝置連接,,可使前門左右開啟與關(guān)閉,,后期也可以連接手套箱,在手套箱內(nèi)部操作前門開關(guān),,確保整個工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中,;后門旋轉(zhuǎn)門,,通過旋轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)后門的開關(guān),開啟后腔體內(nèi)部完全暴露在空氣中,,主要的目的為維護(hù)檢修,,并配一個長方形觀察窗,配合腔體外部照明燈,,方便觀察腔體內(nèi)部狀況,。腔體極限真空優(yōu)于5*10-5pa,從常壓到5*10-4pa不超過20min(充氮?dú)獗Wo(hù)),,保壓12小時,,壓強(qiáng)小于10Pa。
(略)(略),,可以在不關(guān)閉分子泵的條件下,,打開腔室,進(jìn)行樣品及靶材的更換。
(略)腔體內(nèi)表面預(yù)留安裝金屬防污擋板接口,,后期可安裝金屬防污擋板,。
(略)(略)(略)前級泵的抽速不低于30m3/h。
(略)主泵采用抽速≥1300l/s的分子泵,。
(略)主泵和腔室之間安裝有氣動插板閥,,通徑≥200mm。
(略)▲自動抽氣控制,,帶安全互鎖功能,。
(略)(略)等相應(yīng)的硬件。
(略)真空室配真空計(jì),,測量范圍為大氣至10-5pa,。
(略)提供售后承諾書、質(zhì)保,、質(zhì)量認(rèn)證書等,;
(略)售后服務(wù):終生免費(fèi)技術(shù)支持,現(xiàn)場安裝調(diào)試,,7*24全天候提交服務(wù)請求獲?。?span id="oseimcgwi" class="open_quick_reg">(略)
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