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一種高Cr含量,、高彈性模量的CrB2-Cr涂層及其制備工藝

所屬地區(qū):天津 - 天津 發(fā)布日期:2024-11-26
所屬地區(qū):天津 - 天津 招標(biāo)業(yè)主:登錄查看 信息類型:招標(biāo)公告
更新時(shí)間:2024/11/26 招標(biāo)代理:登錄查看 截止時(shí)間:登錄查看
獲取更多招標(biāo)具體信息:151-5652-2897
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱:(略)
掛牌開始時(shí)間(略)掛牌截止時(shí)間(略)
專利所屬地中國(guó)專利類型發(fā)明專利
IPC分類C部--化學(xué),;冶金|C23對(duì)金屬材料的鍍覆,;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;
(略)(略)0.8
授權(quán)日期(略)到期時(shí)間(略)
應(yīng)用領(lǐng)域新材料,;其他(涂層制備技術(shù)領(lǐng)域)
簡(jiǎn)介本發(fā)明公開了一種高Cr含量,、韌性好的CrB2?Cr涂層及其制備工藝,屬于涂層制備技術(shù)領(lǐng)域,。采用高功率脈沖和脈沖直流復(fù)合磁控濺射技術(shù)在金屬或硬質(zhì)合金基體上制備CrB2?Cr納米復(fù)合涂層,。為了更好的控制涂層中Cr元素的含量,靶材同時(shí)選用CrB2靶和兩個(gè)金屬Cr靶,,對(duì)基材表面分別進(jìn)行輝光放電清洗和離子轟擊清洗后沉積金屬Cr過(guò)渡層,,最后同時(shí)開啟Cr靶和CrB2靶,沉積CrB2?Cr涂層,,鍍膜過(guò)程始終在氬氣氣氛內(nèi)進(jìn)行,。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,重復(fù)性好,;制備出的CrB2?Cr涂層中Cr元素含量顯著增加,,涂層具有較高的硬度和熔點(diǎn)、優(yōu)異的高溫?zé)岱€(wěn)定性以及耐腐蝕性能,,其韌性也得到了一定改善,,而且涂層組織結(jié)構(gòu)致密,與基體間的結(jié)合力強(qiáng),。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式:(略)
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類型高校認(rèn)證名稱:(略)
注冊(cè)地(略)注冊(cè)資本162892萬(wàn)元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國(guó)內(nèi)
受讓方資格條件無(wú)
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