轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱(chēng)：（略）
掛牌開(kāi)始時(shí)間（略）掛牌截止時(shí)間（略）
專(zhuān)利所屬地中國(guó)專(zhuān)利類(lèi)型發(fā)明專(zhuān)利
IPC分類(lèi)C部--化學(xué),；冶金|C23對(duì)金屬材料的鍍覆,；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；
（略）（略）8.5
授權(quán)日期（略）到期時(shí)間（略）
應(yīng)用領(lǐng)域新材料
簡(jiǎn)介本發(fā)明涉及納米復(fù)合涂層及其制備技術(shù),，具體地說(shuō)是一種高鋁含量超致密Al?Cr?Si?N納米復(fù)合涂層的制備工藝，采用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在金屬或合金基體上沉積Al?Cr?Si?N納米復(fù)合涂層。靶材選用Al?Cr?Si合金靶（原子比Al:Cr:Si=6:3:1,，純度為99.8wt.%，尺寸為300×100×5mm），鍍膜前先通入Ar,，在?800V偏壓下起輝高功率脈沖磁控濺射Al?Cr?Si靶,，對(duì)基體表面進(jìn)行轟擊清洗。然后降低偏壓至?30V,，沉積Al?Cr?Si過(guò)渡層,，最后再通入反應(yīng)氣體N2，開(kāi)始沉積Al?Cr?Si?N涂層,。本發(fā)明涉及的高鋁含量超致密Al?Cr?Si?N納米復(fù)合涂層制備工藝簡(jiǎn)單,，重復(fù)性好，并且容易工業(yè)化生產(chǎn),；制備出的Al?Cr?Si?N涂層硬度高,、韌性好、內(nèi)應(yīng)力低,、耐磨性能優(yōu)異,，且涂層組織結(jié)構(gòu)極為致密、與基體結(jié)合牢固,，抗高溫氧化能力強(qiáng),。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式：（略）
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類(lèi)型高校認(rèn)證名稱(chēng)：（略）
注冊(cè)地（略）注冊(cè)資本162892萬(wàn)元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國(guó)內(nèi)
受讓方資格條件無(wú)