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一種Zr-B-N納米復(fù)合涂層制備工藝

所屬地區(qū):天津 - 天津 發(fā)布日期:2024-11-26
所屬地區(qū):天津 - 天津 招標(biāo)業(yè)主:登錄查看 信息類型:招標(biāo)公告
更新時(shí)間:2024/11/26 招標(biāo)代理:登錄查看 截止時(shí)間:登錄查看
獲取更多招標(biāo)具體信息:151-5652-2897
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱:(略)
掛牌開始時(shí)間(略)掛牌截止時(shí)間(略)
專利所屬地中國專利類型發(fā)明專利
IPC分類C部--化學(xué);冶金|C23對(duì)金屬材料的鍍覆,;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;
(略)(略)4.1
授權(quán)日期(略)到期時(shí)間(略)
應(yīng)用領(lǐng)域新材料
簡介本發(fā)明涉及納米復(fù)合涂層及其制備技術(shù),,具體地說是一種Zr?B?N納米復(fù)合涂層的制備工藝,,采用高功率脈沖和脈沖直流復(fù)合磁控濺射技術(shù)在金屬或合金基體上沉積Zr?B?N納米復(fù)合涂層,。為提高涂層中Zr元素含量,,靶材同時(shí)選用金屬Zr和化合物ZrB2(純度均為(略)%,,直徑均為80mm),鍍膜前先通入Ar氣,,利用高功率脈沖磁控濺射Zr靶對(duì)基體表面進(jìn)行轟擊清洗,,然后沉積金屬Zr過渡層,最后再通入反應(yīng)氣體N2,,將Zr和ZrB2靶同時(shí)起輝,,開始沉積Zr?B?N涂層。本發(fā)明涉及的Zr?B?N納米復(fù)合涂層制備工藝簡單,重復(fù)性好,,并且容易工業(yè)化生產(chǎn),;制備出的Zr?B?N涂層具有較高的韌性和強(qiáng)度,良好的耐磨性能,,且組織結(jié)構(gòu)致密,、涂層與基體間的結(jié)合力強(qiáng)。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式:(略)
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類型高校認(rèn)證名稱:(略)
注冊地(略)注冊資本162892萬元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國內(nèi)
受讓方資格條件無
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