轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱：（略）
掛牌開始時間（略）掛牌截止時間（略）
專利所屬地中國專利類型實用新型
IPC分類C部--化學(xué),；冶金|C23對金屬材料的鍍覆,；用金屬材料對材料的鍍覆；
（略）（略）7.X
授權(quán)日期（略）到期時間（略）
應(yīng)用領(lǐng)域電子信息；先進制造與自動化；其他(儀器設(shè)備)
簡介本實用新型涉及一種電弧離子鍍膜機引弧針裝置，該裝置包括一根定位桿以及兩根輔助固定的內(nèi)螺紋套管,，定位桿的一端在與軸線平行的方向開有通槽，此端桿段上攻有外螺紋,，另一端開有沉孔并攻內(nèi)螺紋,，無外螺紋桿段的直徑比有外螺紋桿段的直徑小一些。有內(nèi)螺紋的一端通過螺紋固定在氣缸活塞上,，將兩根內(nèi)螺紋套管旋入桿上有外螺紋的部分,，將引弧針放置于通槽內(nèi)。這樣,，通過旋動內(nèi)螺紋套管就能連續(xù)調(diào)節(jié)引弧針尖到電弧靶面的距離,，同時實現(xiàn)引弧針的定位。在電弧靶材發(fā)生消耗后,，常由于引弧針尖到靶面距離過大,，而無法啟弧，該裝置實現(xiàn)了上述距離的連續(xù)可調(diào),，節(jié)省了采用機械方法彎曲引弧針來調(diào)整針尖到靶面距離的時間,，提高了工作效率。(ESM)同樣的發(fā)明創(chuàng)造已同日申請發(fā)明專利,。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式：（略）
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類型高校認(rèn)證名稱：（略）
注冊地（略）注冊資本162892萬元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國內(nèi)
受讓方資格條件無