轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱：（略）
掛牌開始時(shí)間（略）掛牌截止時(shí)間（略）
專利所屬地中國專利類型發(fā)明專利
IPC分類C部--化學(xué),；冶金|C23對(duì)金屬材料的鍍覆,；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆,；
（略）ZL（略）1.5
授權(quán)日期（略）到期時(shí)間（略）
應(yīng)用領(lǐng)域新材料
簡介本發(fā)明提供一種鋯合金表面氧化鋯/氮化鉻復(fù)合膜及其制備方法與應(yīng)用,。所述的復(fù)合膜由氧化鋯和氮化鉻組成,其中氧化鋯的厚度為5~20μm,氮化鉻的厚度為1~4μm,。先采用微弧氧化技術(shù)在鋯合金表面原位生長一層氧化鋯膜,電解液為含有硅酸鈉,、氫氧化鉀和甘油的水溶液;再采用浸沒式等離子體沉積技術(shù)在氧化鋯膜的多孔狀外層上沉積一層氮化鉻膜,靶材為鉻,工作氣體為氮?dú)狻１景l(fā)明主要解決了現(xiàn)有技術(shù)在鋯合金表面制備抗腐蝕膜的效率低,、性能提升幅度有限,易引入雜質(zhì)元素等問題,。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式：（略）
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類型高校認(rèn)證名稱：（略）
注冊(cè)地（略）注冊(cè)資本330544.6萬元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國內(nèi)
受讓方資格條件無