轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況受讓方資格條件
轉(zhuǎn)讓/許可標(biāo)的基本情況標(biāo)的名稱：（略）
掛牌開始時(shí)間（略）掛牌截止時(shí)間（略）
專利所屬地中國(guó)專利類型發(fā)明專利
IPC分類C部--化學(xué),；冶金|C23對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆,；
（略）ZL（略）5.5
授權(quán)日期（略）到期時(shí)間（略）
應(yīng)用領(lǐng)域新材料
簡(jiǎn)介本發(fā)明提供一種用于反應(yīng)堆中鋯合金元件腐蝕防護(hù)的薄膜,，用以提升反應(yīng)堆中鋯合金元件腐蝕防護(hù)的抗腐蝕性能,。它是以壓水反應(yīng)堆中常用的Zr?4合金為基底,，Cr2N為靶材，選用波長(zhǎng)為248nm,、脈寬為25ns的KrF準(zhǔn)分子激光照射靶材,，單脈沖能量為200?500mJ，重復(fù)頻率3?7Hz,，靶材與基底之間的距離為30?50mm,，背景氣體O2的流量為1?5sccm，沉積時(shí)間為60min,。處理結(jié)束后,，對(duì)樣品進(jìn)行真空退火，退火溫度為300?600℃,，保溫時(shí)間為30min,，即可得到厚度為1μm左右、均勻致密的CrN/Cr2O3/Cr復(fù)合薄膜,。薄膜樣品在反應(yīng)堆溶液中的腐蝕電流密度僅為Zr?4合金基底的1/10?1/25,，能顯著提高鋯合金的表面抗腐蝕性能，從而延長(zhǎng)反應(yīng)堆中鋯合金元件腐蝕防護(hù)的使用年限,，提高反應(yīng)堆運(yùn)行的安全性,。
擬轉(zhuǎn)讓/許可方式：（略）
轉(zhuǎn)讓/許可方基本情況轉(zhuǎn)讓/許可方類型高校認(rèn)證名稱：（略）
注冊(cè)地（略）注冊(cè)資本330544.6萬元
受讓方資格條件轉(zhuǎn)讓/許可范圍僅國(guó)內(nèi)
受讓方資格條件無