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掃描電鏡-探索技術(shù)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備購買項(xiàng)目-二期

所屬地區(qū):全國 發(fā)布日期:2024-01-30
所屬地區(qū):全國 招標(biāo)業(yè)主:登錄查看 信息類型:招標(biāo)公告
更新時(shí)間:2024/01/30 招標(biāo)代理:登錄查看 截止時(shí)間:登錄查看
獲取更多招標(biāo)具體信息:151-5652-2897
(略):SOU(略)1408
需求報(bào)名截止時(shí)間:(略)
需求交付時(shí)間:(略)
幣種:人民幣
聯(lián)系人:(略)
聯(lián)系方式:(略)
郵箱:(略)
所屬大類:儀器儀表及實(shí)驗(yàn)用品
稅率:13%
探索技術(shù)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備購買項(xiàng)目技術(shù)要求
一,、總體要求:
(略)
名稱:(略)
技術(shù)要求
(略)
1
掃描電鏡
1.電鏡主機(jī)
1.1臺(tái)式設(shè)計(jì),,放置在桌面操作,,隨走隨關(guān),,無需UPS,,無需空壓機(jī)和冷卻循環(huán)水機(jī),;
1.2底片放大倍率不低于:10×~100000×,顯示器25x-250,000x,;
1.3加速電壓:20kv,、15KV、10KV,、5KV,;
1.4自動(dòng)化功能:自動(dòng)對(duì)焦、自動(dòng)消像散,、自動(dòng)明/暗對(duì)比度,;
1.5背散射檢測器:高靈敏四分割背散射電子檢測器,具備標(biāo)準(zhǔn)背散射像、凹凸3D形貌像,、兩種角度的陰影像1和陰影像2成像功能,;
1.6二次電子檢測器:壓力可變,低真空下可以直接拍攝不導(dǎo)電樣品二次電子圖像,,無需噴鍍,,后續(xù)能譜分析時(shí)不會(huì)引入其他元素的干擾;
1.7具備陰極熒光CL成像能力,探頭一鍵切換,,方便易用,;
1.8樣品臺(tái)移動(dòng)范圍不少于X:40mm,Y:35mm;
1.9預(yù)對(duì)中鎢燈絲設(shè)計(jì),旋擰式更換方式:(略)
1.10最大樣品尺寸:直徑80mm,,厚度50mm,;
1.11電子束位移范圍:≥±50μm(WD=6mm),可移動(dòng)觀測范圍≥40mm*35mm,電子束偏轉(zhuǎn)歸零位手動(dòng)可控,一鍵操作;
1.12背散射圖像可觀察成像模式數(shù)量不少于4種,,陰影像數(shù)量不少于2種,;
1.13配置低真空模式,低真空背散射成像模式不低于4種,,低真空無需專用樣品杯耗材,,方便不導(dǎo)電樣品的無噴鍍拍攝,低使用成本,;
1.14支持小窗口掃描,,掃描模式數(shù)量≥3種;
1.15圖像儲(chǔ)存像素:640×480像素,、1280×960像素,、2560×1920像素可選
1.16圖像存儲(chǔ)格式:BMP,、TIFF、JPEG
1.17自帶報(bào)告輸出功能,,可選WORD/EXCEL/PPT不同模板一鍵導(dǎo)出,,操作簡便,;
1.18圖片上可顯示數(shù)據(jù)信息包含日期時(shí)間,、工作距離、微標(biāo)尺,、微米值,、(略)碼及注釋
1.19(略):Windows1064bit
1.20(略)包含分子渦輪泵和隔膜泵各1臺(tái),渦輪分子泵(TMP)抽速≥65L/s,,隔膜泵抽速≥20L/min,;
1.21內(nèi)部電源安全裝置:帶過電保護(hù)功能,(略)器,;
1.22長襯管設(shè)計(jì),,光闌裝載在襯管內(nèi),更換設(shè)計(jì)簡單便捷,,用戶可自行更換無需廠家上門,;
1.23工作站配置:中央處理器i5四核或更優(yōu),雙網(wǎng)卡,,8G內(nèi)存,,硬盤1T或更優(yōu),WIN10系統(tǒng),;
2.(略)
2.1專用定量分析工具,,適用于自動(dòng)顆粒分析、孔徑分析,;
2.2(略)專用數(shù)據(jù)文件格式,,(略)/拍照時(shí)間/放大倍率/照片尺寸等參數(shù),自動(dòng)提取二軸標(biāo)定數(shù)據(jù),、自動(dòng)加載標(biāo)尺,、自動(dòng)標(biāo)尺切換;
2.3批量化圖像導(dǎo)入與歸檔:批量導(dǎo)入,、批量標(biāo)注,、批量合并等多圖批處理功能,批量樣品檢驗(yàn)過程,;
2.4圖像處理與矯正:圖像增強(qiáng),、反差調(diào)整、圖像矯正,、劃痕污跡處理,;
2.5定倍與視場功能:屏幕定倍顯示,、定倍照片打印、定倍文件保存,、定倍插入報(bào)告,、定倍插入Word/Excel等;(略)域,、(略)域,、(略)域、任意(略)域等多種模式視場裁剪工具,;
2.6支持OneToOne/AllInOne模式多圖像測量,;提供高級(jí)影像測量工具;數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)功能:最大值,、最小值,、平均值、極差,、方差,、標(biāo)準(zhǔn)差、離散系數(shù)等,,同時(shí)處理多個(gè)管制項(xiàng)目,;測量數(shù)據(jù)、影像合成輸出到Excel報(bào)告,;支持智能化選擇性Excel報(bào)告數(shù)據(jù)輸出功能,,實(shí)現(xiàn)“待測工件→測量參數(shù)→專用報(bào)告→品管統(tǒng)計(jì)”數(shù)據(jù)流自動(dòng)化;
2.7層深膜厚分析功能:自動(dòng)計(jì)算測量參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),,支持按不同管制項(xiàng)目參數(shù)測量評(píng)級(jí),、生成檢驗(yàn)報(bào)告,提供馬氏體針長,、滲層鍍層深度,、晶粒尺寸、夾雜物尺寸,、石墨大小等多個(gè)半自動(dòng)測量評(píng)級(jí)模塊,;
2.8自動(dòng)顆粒形態(tài)分析與統(tǒng)計(jì):顆粒形態(tài)分析、統(tǒng)計(jì),,自動(dòng)分割提取顆粒,、識(shí)別顆粒邊界,自動(dòng)計(jì)數(shù)測量顆粒面積,、最大卡規(guī)直徑,、粒度、圓度,、形態(tài)特征等大量參數(shù),;支持按不同特征參數(shù)篩選顆粒,,支持按不同特征參數(shù)、不同(略)間進(jìn)行分類統(tǒng)計(jì),,給出統(tǒng)計(jì)柱狀圖和報(bào)告,;提供人工介入的半自動(dòng)顆粒計(jì)數(shù)工具,保障樣品圖像惡劣狀態(tài)下,,實(shí)現(xiàn)精確測量分析,;提供顆粒個(gè)數(shù)密度測定、多相顆粒個(gè)數(shù)比率測定模塊,;
2.9支持個(gè)性化分析報(bào)告模板設(shè)計(jì),,自動(dòng)生成圖文并茂的定性分析報(bào)告和定量評(píng)級(jí)檢驗(yàn)報(bào)告;
2.10內(nèi)嵌高級(jí)功能:圖像拼接MIA/三維表面3DView/目標(biāo)顆粒自動(dòng)尋邊ATE
3.牛津能譜儀
3.1探測器:分析型SDD硅漂移電制冷探測器,,有效面積≥30mm2,高分子超薄窗設(shè)計(jì),,非氮化硅窗口,,無需液氮冷卻,僅消耗電能,;
3.2能量分辨率:MnKa保證優(yōu)于129eV(@計(jì)數(shù)率50,000cps),;
3.3元素分析范圍:B5~Cf98;
3.4具備點(diǎn),、線,、面掃描功能,帶零峰修正能力,,可以快速穩(wěn)定譜峰,,開機(jī)后無需重新修正峰位;
3.5定性分析:可自動(dòng)標(biāo)識(shí)譜峰,,可進(jìn)行譜重構(gòu),;
3.6定量分析:定量修正技術(shù),具有完備的虛擬標(biāo)樣庫,;
4.離子濺射儀
4.1樣品倉尺寸不小于:內(nèi)徑110mm×高度130mm,;
4.2最大樣品尺寸:不小于直徑60mm;
4.3金靶材尺寸:直徑≥57mm,,磁控式,;
4.4靶材:標(biāo)配Au靶;
4.5(略):機(jī)械泵,,抽速≥8m3/h,;
4.6真空檢測:定制皮實(shí)制,搭配真空指針表,;
4.7自動(dòng)排放氣功能,,無需手動(dòng)排氣,;
5.配置清單
臺(tái)式掃描電鏡主機(jī)1臺(tái);
牛津能譜儀1套,;
離子濺射儀1臺(tái),;
自動(dòng)顆粒統(tǒng)計(jì)分析軟件1套
機(jī)械泵1臺(tái)
預(yù)對(duì)中鎢燈絲10顆;
導(dǎo)電膠帶5卷,;
直角觀察樣品臺(tái)5個(gè),;
電腦及顯示屏1套;
配套儀器桌1個(gè),。6.要求送貨車輛帶升降板,,無需叉車輔助
(略)TM4000PlusII
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